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黄光制程/双工位曝光机

发布时间:2021-10-07 08:40:55人气:

平行光源单面双工位曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的专用设备,系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干膜曝光。

设备特点

1.双工位曝光机双工位平台真空吸附将FILMMASK贴紧,曝光解析度20UM

2.采用进口曲面MIRROR反射光学系统曝光均匀度: > 90%

3.灯源: UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)

4.智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)

5.双工位曝光机平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用)

设备型号:ZKUE-M552

平行曝光机


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  • 双面UV干燥机ZKUV-844
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